美国将芯片视为国安战略物资，针对半导体制造设备进行出口管制，限制中国取得高端曝光机，不过是否也导致中国本土技术进步，备受市场关注。 对此，英特尔（Intel）首席执行官陈立武在接受《日经亚洲》专访时直言，「就今天的情况来看，我认为中国并没有落后太多。 」 科技媒体《Wccftech》报导指出，中美的芯片技术竞争一直备受关注，特斯拉首席执行官马斯克（Elon Musk）甚至曾称，中国最快可能在2至3年内，就突破芯片制造技术的限制；蔡司（Zeiss）半导体事业部首席执行官则认为，以最新的极紫外光（EUV）曝光机技术来看，合理估计中国落后西方国家约15年。 中国芯片能跟美国竞争？

陈立武：各有优劣势​ 报导提到，如今特尔首席执行官陈立武也分享了他对此议题的看法，他被问到，在美国管制中国企业取得最新型EUV设备的情况下，美国与中国的半导体产业，目前处于什么样的竞争格局？ 陈立武对此表示，无论是中国还是美国的企业，各自都有不同的优势与劣势，企业必须将客户需求放在最重要的位置，最终能够决定谁胜出的，将是那些最符合企业客户、一般客户需求的产品。 提问也指出，中国是否有可能在未来5至10年内，追上美国的先进芯片制造技术？ 陈立武的回答则相当简短，仅表示「就今天的情况来看，我认为中国并没有落后太多。

」 更多风传媒独家内幕： ‧ 才刚吹捧中国芯片「3年就能打破技术瓶颈」 马斯克突自白：我根本就不懂怎么造芯片 ‧ 美国芯片管制被揭出大漏洞！ 中国仍买到破百台ASML曝光机 报告呼吁：全面禁止出口「这机型」 ‧ 台积电与ASML宣布重磅合作！ 联手改写曝光机规格 12吋光罩High NA EUV量产时程曝光