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美國將晶片視為國安戰略物資,針對半導體製造設備進行出口管制,限制中國取得高階曝光機,不過是否也導致中國本土技術進步,備受市場關注。 對此,英特爾(Intel)執行長陳立武在接受《日經亞洲》專訪時直言,「就今天的情況來看,我認為中國並沒有落後太多。 」 科技媒體《Wccftech》報導指出,中美的晶片技術競爭一直備受關注,特斯拉執行長馬斯克(Elon Musk)甚至曾稱,中國最快可能在2至3年內,就突破晶片製造技術的限制;蔡司(Zeiss)半導體事業部執行長則認為,以最新的極紫外光(EUV)曝光機技術來看,合理估計中國落後西方國家約15年。 中國晶片能跟美國競爭?
陳立武:各有優劣勢 報導提到,如今特爾執行長陳立武也分享了他對此議題的看法,他被問到,在美國管制中國企業取得最新型EUV設備的情況下,美國與中國的半導體產業,目前處於什麼樣的競爭格局? 陳立武對此表示,無論是中國還是美國的企業,各自都有不同的優勢與劣勢,企業必須將客戶需求放在最重要的位置,最終能夠決定誰勝出的,將是那些最符合企業客戶、一般客戶需求的產品。 提問也指出,中國是否有可能在未來5至10年內,追上美國的先進晶片製造技術? 陳立武的回答則相當簡短,僅表示「就今天的情況來看,我認為中國並沒有落後太多。
」 更多風傳媒獨家內幕: ‧ 才剛吹捧中國晶片「3年就能打破技術瓶頸」 馬斯克突自白:我根本就不懂怎麼造晶片 ‧ 美國晶片管制被揭出大漏洞! 中國仍買到破百台ASML曝光機 報告呼籲:全面禁止出口「這機型」 ‧ 台積電與ASML宣布重磅合作! 聯手改寫曝光機規格 12吋光罩High NA EUV量產時程曝光