中央消息

（中央社记者 冯昭 上海15日电）正在中国上海举行的中国国际工业博览会上，一家上海新创厂商低调展出7纳米以下最先进制程芯片所需极紫外光（EUV）微影设备样机。

美国对中国实施先进技术出口管制，中国则由政府主导突破限制。其中，美国阻止荷兰艾司摩尔（ASML）向中国出口EUV微影设备后，中国自行开发深紫外光（DUV）微影设备，以提升先进制程竞争力。

而生产最先进芯片所需的EUV，目前仍是由艾司摩尔垄断市场。因此在传出中国研发自制生产EUV后，研发进度一直是外界关心的话题。

在工博会亮相的这台大型EUV样机，未放在与集成电路相关的热门展馆，而是低调置于创新科技馆内上海市专属展区中。面对媒体记者询问细节，现场人员一概以不接受访问拒绝。

据研制厂商朗道科技在展会现场提供的书面简介，朗道科技在2024年设立朗道光源项目，聚焦半导体制造内核技术EUV微影设备光源。

相较于对产品解说的低调，由于创新科技馆旁就是中国各大学院校展示研究成果的展馆，一旦有年轻学生停驻，工作人员会立即递上包含全职和实习职位的征才文宣。工作人员说，「我们是新公司，非常需要人才」。（编辑：周慧盈）1151015

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