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（中央社記者 馮昭 上海15日電）正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光（EUV）微影設備樣機。

美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。其中，美國阻止荷蘭艾司摩爾（ASML）向中國出口EUV微影設備後，中國自行開發深紫外光（DUV）微影設備，以提升先進製程競爭力。

而生產最先進晶片所需的EUV，目前仍是由艾司摩爾壟斷市場。因此在傳出中國研發自製生產EUV後，研發進度一直是外界關心的話題。

在工博會亮相的這台大型EUV樣機，未放在與積體電路相關的熱門展館，而是低調置於創新科技館內上海市專屬展區中。面對媒體記者詢問細節，現場人員一概以不接受訪問拒絕。

據研製廠商朗道科技在展會現場提供的書面簡介，朗道科技在2024年設立朗道光源專案，聚焦半導體製造核心技術EUV微影設備光源。

相較於對產品解說的低調，由於創新科技館旁就是中國各大學院校展示研究成果的展館，一旦有年輕學生停駐，工作人員會立即遞上包含全職和實習職位的徵才文宣。工作人員說，「我們是新公司，非常需要人才」。（編輯：周慧盈）1151015

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