先进制程竞争，是否代表新设备愈早导入愈好？ 台积电（2330）董事长暨总裁魏哲家今（15）日在法说会回应High NA EUV导入时点时表示，公司目前规画2030年开始采用，评估关键包括技术、合理成本与成熟度。 他并不认为，竞争者较早使用这类设备，就使台积电处于技术劣势。 法人在问答时指出，部分竞争者已采用、或规画比台积电更早导入高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV），因而询问是否影响台积电的技术领先地位。 新设备进入量产，必须同时符合成本与成熟度 魏哲家表示，台积电评估新设备时，必须确认其技术能力、成本合理性，以及最重要的成熟度，才会将其导入量产。

他说，公司规画2030年开始使用High NA，是因为认为届时设备成熟度更适合采用。 这项判断着眼于能否在量产中有效运用，而非仅以设备进厂时间作为竞争指针。 魏哲家也肯定High NA的技术价值，表示这是很好的设备，在更小几何尺寸上具有优势。 在肯定设备优势的同时，公司仍依自身制程与成本评估安排导入时点。 与ASML推进12吋光罩合作 除了设备本身，魏哲家也提到，台积电正与艾司摩尔（ASML；那斯达克，ASML）密切合作，推进12吋光罩，以改善未来采用High NA的成本条件。 此处的12吋是指光罩规格，与12吋晶圆不同。 设备采用与光罩配套的推进，都纳入公司对High NA量产条件的评估。

不以导入先后，单独判断制程竞争力 对于较晚采用是否形成劣势，魏哲家明确回应不认为如此，并表示台积电仍有信心向客户提供先进制程技术。 据了解，A14将于2027年试产、2028年量产；High NA目前的采用规画则为2030年。 两者时程显示，公司并未将A14量产与High NA首次导入设置为同一时间点。 从魏哲家的回答来看，台积电的技术判断仍以量产条件为内核：新设备必须能提供所需能力，也要在成本及成熟度上符合要求，才能转化为可交付客户的制程服务。