先進製程競爭，是否代表新設備愈早導入愈好？ 台積電（2330）董事長暨總裁魏哲家今（15）日在法說會回應High NA EUV導入時點時表示，公司目前規畫2030年開始採用，評估關鍵包括技術、合理成本與成熟度。 他並不認為，競爭者較早使用這類設備，就使台積電處於技術劣勢。 法人在問答時指出，部分競爭者已採用、或規畫比台積電更早導入高數值孔徑極紫外光微影設備（High NA EUV），因而詢問是否影響台積電的技術領先地位。 新設備進入量產，必須同時符合成本與成熟度 魏哲家表示，台積電評估新設備時，必須確認其技術能力、成本合理性，以及最重要的成熟度，才會將其導入量產。

他說，公司規畫2030年開始使用High NA，是因為認為屆時設備成熟度更適合採用。 這項判斷著眼於能否在量產中有效運用，而非僅以設備進廠時間作為競爭指標。 魏哲家也肯定High NA的技術價值，表示這是很好的設備，在更小幾何尺寸上具有優勢。 在肯定設備優勢的同時，公司仍依自身製程與成本評估安排導入時點。 與ASML推進12吋光罩合作 除了設備本身，魏哲家也提到，台積電正與艾司摩爾（ASML；那斯達克，ASML）密切合作，推進12吋光罩，以改善未來採用High NA的成本條件。 此處的12吋是指光罩規格，與12吋晶圓不同。 設備採用與光罩配套的推進，都納入公司對High NA量產條件的評估。

不以導入先後，單獨判斷製程競爭力 對於較晚採用是否形成劣勢，魏哲家明確回應不認為如此，並表示台積電仍有信心向客戶提供先進製程技術。 據了解，A14將於2027年試產、2028年量產；High NA目前的採用規畫則為2030年。 兩者時程顯示，公司並未將A14量產與High NA首次導入設定為同一時間點。 從魏哲家的回答來看，台積電的技術判斷仍以量產條件為核心：新設備必須能提供所需能力，也要在成本及成熟度上符合要求，才能轉化為可交付客戶的製程服務。