新闻笔记 · IDAEO AI News

#新闻媒体

应材携手英特尔 加速芯片制造技术创新

发布者:

TL;DR · 这代表什么

应材(AMAT-US)今(7)日宣布与英特尔(INTC-US)携手合作,加速新一代晶体管、互连与先进封装技术的芯片制造创新。此次合作将结合应材位于硅谷的设备与制程创新暨商业化(EPIC)中心,与英特尔位于奥勒冈州希尔斯伯勒(Hillsboro)研发园区的领先技术能力,缩短支持 AI 运算所需先进半导体技术的上市时程。

(摘自原文导言,非改写)

新闻正文

完整中文翻译制作中,以下为原文。

应材(AMAT-US)今(7)日宣布与英特尔(INTC-US)携手合作,加速新一代晶体管、互连与先进封装技术的芯片制造创新。此次合作将结合应材位于硅谷的设备与制程创新暨商业化(EPIC)中心,与英特尔位于奥勒冈州希尔斯伯勒(Hillsboro)研发园区的领先技术能力,缩短支持 AI 运算所需先进半导体技术的上市时程。

应用材料总裁暨首席执行官盖瑞.迪克森(Gary Dickerson)表示,应材与英特尔拥有数十年深厚的合作关系,双方持续突破材料工程的技术极限,共同推进半导体技术蓝图。通过双方团队在 EPIC 中心携手合作,我们将进一步深化伙伴关系,加速晶体管、互连与封装技术创新,推动 AI 运算的未来发展。

英特尔首席执行官陈立武(Lip-Bu Tan)表示,AI 运算需求带动产业对性能、能源效率与封装技术重大突破的需求。英特尔致力于推动这些创新,并与生态系伙伴紧密协作。应用材料公司是我们重要的合作伙伴,期待在 EPIC 中心进一步扩展双方合作,加速先进技术从实验室研发走向在美国量产的进程。

应材与英特尔的团队正针对 AI 工作负载所需的先进逻辑制程节点,共同开发新一代材料、制程技术及组件架构,并将在 EPIC 中心持续推进相关工作。双方的合作涵盖前段制程与后段制程的技术创新,包括互连微缩技术。此外,双方也将共同开发应用于 Foveros 3D 堆栈的先进封装技术,以实现更高的互连密度、更佳的供电能力与散热性能,支持专为新兴代理式 AI 工作负载所打造的高性能计算平台。

应用材料公司半导体产品事业群总裁帕布‧若杰(Prabu Raja)博士表示,随着每一个制程节点的芯片制造技术蓝图日益复杂,要加速半导体组件、互连与封装技术创新,需要研发与制造领域间更紧密的合作。我们期待与身为 EPIC 中心创始合作伙伴的英特尔密切合作,缩短技术开发周期,并加速新技术导入市场。

英特尔运行副总裁暨技术与首席运营官、Intel Foundry 总经理 Naga Chandrasekaran 表示,随着 AI 基础设施快速扩建,加速研发以跟上发展步伐,对于提供客户期待 Intel Foundry 所具备的技术、制造卓越性及晶圆代工服务至关重要。应用材料公司全新的 EPIC 中心提供了一个让双方团队能够更紧密、更高速协作的环境,加速材料开发与制程创新。

引用级事实单元(F-Units)

应材(AMAT-US)今(7)日宣布与英特尔(INTC-US)携手合作,加速新一代晶体管、互连与先进封装技术的芯片制造创新。

F1 本站收录原文的原句(仅去排版记号与多余空白)· 第 1 段 · 鉅亨網 来源类别:未分类(尚未核实)

此外,双方也将共同开发应用于 Foveros 3D 堆栈的先进封装技术,以实现更高的互连密度、更佳的供电能力与散热性能,支持专为新兴代理式 AI 工作负载所打造的高性能计算平台。

F2 本站收录原文的原句(仅去排版记号与多余空白)· 第 4 段 · 鉅亨網 来源类别:未分类(尚未核实)

常见问题(FAQ)

這則新聞的重點是什麼?

应材(AMAT-US)今(7)日宣布与英特尔(INTC-US)携手合作,加速新一代晶体管、互连与先进封装技术的芯片制造创新。此次合作将结合应材位于硅谷的设备与制程创新暨商业化(EPIC)中心,与英特尔位于奥勒冈州希尔斯伯勒(Hillsboro)研发园区的领先技术能力,缩短支持 AI 运算所需先进半导体技术的上市时程。

原文提到哪些關鍵數字?

此外,双方也将共同开发应用于 Foveros 3D 堆栈的先进封装技术,以实现更高的互连密度、更佳的供电能力与散热性能,支持专为新兴代理式 AI 工作负载所打造的高性能计算平台。

這則新聞的原始出處與發布時間?

原始出處:鉅亨網(https://news.cnyes.com/news/id/6623619)。原文發布時間:2026-10-07。