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駁AI光刻瓶頸疑慮!蔡司:德國總部新廠擴產2.5萬平方公尺 撐ASML至2040年

TL;DR · 这代表什么

德国蔡司集团(Zeiss)半导体制造技术事业部总裁法兰克·罗蒙德(Frank Rohmund)近日表示,作为艾司摩尔(ASML)EUV光刻机光学系统的唯一供应商,蔡司具备充足且可弹性扩充的产能,足以消化云端巨头持续投入AI基础建设所带动的先进芯片需求。他预期,今年半导体事业将实现显著成长。

(摘自原文导言,非改写)

新闻正文

德国蔡司集团(Zeiss)半导体制造技术事业部总裁法兰克·罗蒙德(Frank Rohmund)近日表示,作为艾司摩尔(ASML)EUV光刻机光学系统的唯一供应商,蔡司具备充足且可弹性扩充的产能,足以消化云端巨头持续投入AI基础建设所带动的先进芯片需求。 他预期,今年半导体事业将实现显著成长。 上个月底,蔡司宣布在德国南部奥伯科亨(Oberkochen)总部添加约2.5万平方公尺的生产与配套设施。 员工已于8月迁入这座历时四年建成的新空间,其余建筑将分阶段交付使用。 罗蒙德在接受《彭博信息》专访时,明确反驳市场对AI芯片供应链可能出现瓶颈的担忧。 他指出,蔡司同时在韦茨拉尔(Wetzlar)等园区兴建新工厂,为未来扩产预留弹性空间。

他强调,这些才是「真正攸关产能扩充的长期投资」。 蔡司与艾司摩尔共同制定技术蓝图,远期规划至约2040年,确保双方在先进半导体制程上的长期合作。 奥伯科亨与韦茨拉尔是全球仅有的两处能建造ASML光刻机专用光学组件的基地。 蔡司独家供应EUV透镜、反射镜、照明器与集光器。 新一代High-NA EUV光学系统包含超过四万个投影零件,总重约12吨,体积与重量约为标准EUV系统的七倍。 单片反射镜需以原子级精度打磨,镀上百余层薄膜,整个制程耗时近一年。 蔡司的光学组件参与了全球约八成芯片的生产制造。 然而,最大的风险来自美中科技博弈。

美国已禁止艾司摩尔向中国出口EUV及先进浸没式DUV设备,且美国国会议员正推动将所有DUV技术纳入出口管制范围。 由于蔡司同样是DUV光学系统的关键供应商,若管制范围扩大,其相关业务将受到严重冲击。

引用级事实单元(F-Units)

德国蔡司集团(Zeiss)半导体制造技术事业部总裁法兰克·罗蒙德(Frank Rohmund)近日表示,作为艾司摩尔(ASML)EUV光刻机光学系统的唯一供应商,蔡司具备充足且可弹性扩充的产能,足以消化云端巨头持续投入AI基础建设所带动的先进芯片需求。

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上个月底,蔡司宣布在德国南部奥伯科亨(Oberkochen)总部添加约2.5万平方公尺的生产与配套设施。

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员工已于8月迁入这座历时四年建成的新空间,其余建筑将分阶段交付使用。

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蔡司与艾司摩尔共同制定技术蓝图,远期规划至约2040年,确保双方在先进半导体制程上的长期合作。

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新一代High-NA EUV光学系统包含超过四万个投影零件,总重约12吨,体积与重量约为标准EUV系统的七倍。

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常见问题(FAQ)

这则新闻的重点是什么?

德国蔡司集团(Zeiss)半导体制造技术事业部总裁法兰克·罗蒙德(Frank Rohmund)近日表示,作为艾司摩尔(ASML)EUV光刻机光学系统的唯一供应商,蔡司具备充足且可弹性扩充的产能,足以消化云端巨头持续投入AI基础建设所带动的先进芯片需求。他预期,今年半导体事业将实现显著成长。上个月底,蔡司宣布在德国南部奥伯科亨(Oberkochen)总部添加约2.5万平方公尺的生产与配套设施。

原文提到哪些关键数字?

上个月底,蔡司宣布在德国南部奥伯科亨(Oberkochen)总部添加约2.5万平方公尺的生产与配套设施。 员工已于8月迁入这座历时四年建成的新空间,其余建筑将分阶段交付使用。

这则新闻的原始出处与发布时间?

原始出处:鉅亨網(https://news.cnyes.com/news/id/6558819)。原文发布时间:2026-08-04。