德國蔡司集團（Zeiss）半導體製造技術事業部總裁法蘭克·羅蒙德（Frank Rohmund）近日表示，作為艾司摩爾（ASML）EUV光刻機光學系統的唯一供應商，蔡司具備充足且可彈性擴充的產能，足以消化雲端巨頭持續投入AI基礎建設所帶動的先進晶片需求。 他預期，今年半導體事業將實現顯著成長。 上個月底，蔡司宣布在德國南部奧伯科亨（Oberkochen）總部新增約2.5萬平方公尺的生產與配套設施。 員工已於8月遷入這座歷時四年建成的新空間，其餘建築將分階段交付使用。 羅蒙德在接受《彭博資訊》專訪時，明確反駁市場對AI晶片供應鏈可能出現瓶頸的擔憂。 他指出，蔡司同時在韋茨拉爾（Wetzlar）等園區興建新工廠，為未來擴產預留彈性空間。

他強調，這些才是「真正攸關產能擴充的長期投資」。 蔡司與艾司摩爾共同制定技術藍圖，遠期規劃至約2040年，確保雙方在先進半導體製程上的長期合作。 奧伯科亨與韋茨拉爾是全球僅有的兩處能建造ASML光刻機專用光學元件的基地。 蔡司獨家供應EUV透鏡、反射鏡、照明器與集光器。 新一代High-NA EUV光學系統包含超過四萬個投影零件，總重約12噸，體積與重量約為標準EUV系統的七倍。 單片反射鏡需以原子級精度打磨，鍍上百餘層薄膜，整個製程耗時近一年。 蔡司的光學元件參與了全球約八成晶片的生產製造。 然而，最大的風險來自美中科技博弈。

美國已禁止艾司摩爾向中國出口EUV及先進浸沒式DUV設備，且美國國會議員正推動將所有DUV技術納入出口管制範圍。 由於蔡司同樣是DUV光學系統的關鍵供應商，若管制範圍擴大，其相關業務將受到嚴重衝擊。