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英特尔首席执行官陈立武:中国芯片制造未落后美国太多 商业获利才是关键

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TL;DR · 这代表什么

针对美中半导体技术的竞争态势,英特尔(INTC-US)首席执行官陈立武近日接受《日经亚洲》专访时直言,中国在芯片制造领域的技术差距「目前并没有外界想像的那么大」。他认为比起单纯追求最前线技术,能否打造出符合客户需求并成功获利的产品,才是决定胜负的关键。

(摘自原文导言,非改写)

新闻正文

完整中文翻译制作中,以下为原文。

针对美中半导体技术的竞争态势,英特尔(INTC-US)首席执行官陈立武近日接受《日经亚洲》专访时直言,中国在芯片制造领域的技术差距「目前并没有外界想像的那么大」。他认为比起单纯追求最前线技术,能否打造出符合客户需求并成功获利的产品,才是决定胜负的关键。

陈立武分析,美中半导体企业各有优劣势,美国在芯片设计能力与软硬件生态系(如辉达算力芯片、微软操作系统、高通芯片等)具备高度统治力;中国则在产业链完整度、协同效率与成熟制程制造规模上占据优势。

在 AI 领域,陈立武特别引述月之暗面(Moonshot AI)的 Kimi、智谱 AI 的 GLM 以及 DeepSeek 等中国模型,指出其技术性能不逊于美国同类产品,且具备明显的低成本优势。他强调:「最重要的是什么对消费者最有利,谁能造出满足企业需求的产品并卖出去赚钱,谁就能取得成功。」

对于中国能否在 5 至 10 年内追赶上美国先进芯片制造,业界看法显著分歧。特斯拉首席执行官马斯克(Elon Musk)曾乐观预测,中国最快可在 2 至 3 年内突破制造限制;但蔡司(Zeiss)半导体业务负责人则持保守态度,指出受限于美国出口管制,中国无法取得荷兰艾斯摩尔(ASML)最先进的极紫外光(EUV)微影机,在先进制程微缩上至少落后 15 年。

然而,中国业者上海兰达(Landau)日前展示了首款国产 EUV 光源原型,显示中国正全力尝试突破设备封锁。

最后,陈立武透露英特尔内部重组已完成约 80%,美国政府持股并未干预公司独立营运。

对于英特尔能否缩小与台积电(2330-TW)(TSM-US)的晶圆代工差距,陈立武坦言这需要数年时间,并以台积电历经 10 至 20 年才成为全球龙头为例,强调晶圆代工事业需要耐心长期经营。

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针对美中半导体技术的竞争态势,英特尔(INTC-US)首席执行官陈立武近日接受《日经亚洲》专访时直言,中国在芯片制造领域的技术差距「目前并没有外界想像的那么大」。

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对于中国能否在 5 至 10 年内追赶上美国先进芯片制造,业界看法显著分歧。

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特斯拉首席执行官马斯克(Elon Musk)曾乐观预测,中国最快可在 2 至 3 年内突破制造限制;但蔡司(Zeiss)半导体业务负责人则持保守态度,指出受限于美国出口管制,中国无法取得荷兰艾斯摩尔(ASML)最先进的极紫外光(EUV)微影机,在先进制程微缩上至少落后 15 年。

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最后,陈立武透露英特尔内部重组已完成约 80%,美国政府持股并未干预公司独立营运。

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对于英特尔能否缩小与台积电(2330-TW)(TSM-US)的晶圆代工差距,陈立武坦言这需要数年时间,并以台积电历经 10 至 20 年才成为全球龙头为例,强调晶圆代工事业需要耐心长期经营。

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常见问题(FAQ)

這則新聞的重點是什麼?

针对美中半导体技术的竞争态势,英特尔(INTC-US)首席执行官陈立武近日接受《日经亚洲》专访时直言,中国在芯片制造领域的技术差距「目前并没有外界想像的那么大」。他认为比起单纯追求最前线技术,能否打造出符合客户需求并成功获利的产品,才是决定胜负的关键。

原文提到哪些關鍵數字?

对于中国能否在 5 至 10 年内追赶上美国先进芯片制造,业界看法显著分歧。 特斯拉首席执行官马斯克(Elon Musk)曾乐观预测,中国最快可在 2 至 3 年内突破制造限制;但蔡司(Zeiss)半导体业务负责人则持保守态度,指出受限于美国出口管制,中国无法取得荷兰艾斯摩尔(ASML)最先进的极紫外光(EUV)微影机,在先进制程微缩上至少落后 15 年。

這則新聞的原始出處與發布時間?

原始出處:鉅亨網(https://news.cnyes.com/news/id/6634096)。原文發布時間:2026-10-20。