AI投資正把晶片製造設備的需求能見度推向更遠。 艾司摩爾（ASML）執行長Christophe Fouquet今（14）日表示，部分客戶已對提前下訂2029年、甚至2030年的設備表達強烈興趣；但公司原先規劃2027年增加30%、2028年再增加30%的產能，仍無法完全滿足客戶需求，正研究進一步提高2028年及之後的供應能力。 「2027年增加30%、2028年再增加30%，仍無法滿足客戶需求。 」Fouquet直言，ASML必須做得更多，尤其要尋找2028年及之後進一步擴大產能的方法，以盡可能滿足客戶需求。 目前公司尚未公布新的擴產增幅。

客戶加速建廠，設備需求討論延伸至2030年 Fouquet表示，本季與客戶密集交流後發現，客戶不僅看到短期需求增加，也認為需求延續時間正在拉長。 他說，客戶目前的能見度非常好，預期至少到2028年，自身供給仍無法滿足需求，因此希望更快增加產能，正在加速既有投資計畫，並宣布新廠。 這些投資動作，短期增加ASML整體產品組合的需求，長期則提高設備需求能見度，尤其是EUV。 Fouquet指出，許多客戶討論已轉向2027年之後，目前有不少針對2028年的訂單承接活動，也看到客戶對提前下訂2029年、甚至2030年設備表達興趣。 ASML指出，客戶持續上調短、中期設備需求預估，主要反映他們對AI相關投資規模及持續時間的預期。

就此次揭露內容而言，2029年與2030年的需求屬於客戶表達的提前下單興趣，公司並未公布這兩個年度已取得的訂單金額。 原訂兩年各增30%，ASML研究進一步擴產 依ASML說明，先前提出的擴產規劃，是2027年將Low NA EUV與浸潤式深紫外光（DUV）產能較2026年提高30%，並評估2028年再提高30%。 隨著需求能見度與訂單動能增強，公司目前判斷，原規劃供應量仍不足以完全滿足客戶需求。 Fouquet表示，ASML團隊今年已積極推進產能提升。 浸潤式DUV業務方面，去年此時原先規劃今年出貨量會明顯減少，但目前需求已恢復強勁，預計全年出貨數量約與去年相當。 他指出，增加產出已成為ASML每天的核心工作。

「客戶每天都要求我們提供更多設備。 」由於客戶對未來需求有很高的能見度，ASML也因此更確定必須持續擴大供應能力。 設備升級與單機產出提升，同步補足產能 除了增加設備出貨，ASML也透過既有設備升級及新產品生產力提升，協助客戶增加晶圓產出。 財務長Roger Dassen表示，客戶很重視累積裝機業務，因為能在既有廠房空間內，較快取得額外產能。 「在既有廠房空間內，就能很快取得額外產能。 」Dassen說，ASML正積極開發更多升級方案，讓客戶透過現有設備增加產出。 新產品方面，NXE:3800F預計將每小時晶圓產出從目前的230片提高至260片，2027年推出時數量有限，但2028年及之後，對客戶產能的助益將更明顯。

浸潤式設備方面，ASML預計提高2027年出貨、用於關鍵製程的設備規格，使每小時晶圓產出達330片。 Dassen表示，既有設備升級與新設備產出提升相結合，將顯著增加客戶產能。 對ASML而言，提高設備供應量與單機生產力，已成為回應這波需求的兩項並行工作。