美国针对半导体制造设备进行出口管制，限制中国取得高端曝光机，不过除了先进制程使用的极紫外光（EUV）设备外，由美国研究机构CTS、美前出口管制官员撰写的最新报告指出，中国芯片商仍获得了高达343台的深紫外光（DUV）曝光机，其中大多是ASML的产品，显示出口管制依然存在漏洞，呼吁美国与盟友「全面禁止对中国出口浸润式DUV设备」。 港媒《南华早报》指出，总部位于华盛顿的政策研究机构「科技与国家治理能力中心」（Centre for Technology & Statecraft）发布最新报告，作者包括前美国出口管制官员、前美国商务部科技政策顾问。 美国芯片管制漏洞？

中国芯片商大买343台DUV​ 报告表示，截至2026年年初，中国芯片制造商预估已获得了343台浸润式DUV，其中有270台属于荷兰巨头艾司摩尔（ASML）的Twinscan NXT:1980i系统；在2024年及2025年，中国晶圆厂就花费超过130亿美元，分别购买约90台、89台的NXT:1980i。 报告提到，美国禁止对中出口EUV，因此中国芯片制造商高度依赖不在管制范围内的浸润式DUV。 而荷兰政府从2023年9月起，就规定ASML更高端的NXT:2000i与以上型号的浸润式DUV需要出口许可，NXT:1980i虽也需要许可证，不过仍通过逐案审查获得批准。 ​DUV造不出先进芯片？

华为新系列、高端内存都用它​​​ 报告指出，虽然DUV是较极紫外光（EUV）落后的技术，但经调整后，仍能用来制造包括华为升腾系列的7纳米芯片、AI处理器所需的高端内存。 报告作者估计，在配套设备充足的中国晶圆厂，一台NXT：1980i，每年可能支持生产超过10万颗升腾910C等效芯片。 报告强调，目前的出口管制做法存在重大漏洞，因此建议「全面禁止向中国出口浸润式DUV」，并限制相关零件供应与维修服务，同时呼吁美国与荷兰协调、或单方面地将出口管制，扩大到采用美国技术的外国制造设备。 更多风传媒独家内幕： ‧ 中国赶上曝光机、晶圆制造脚步要多久？ 马斯克预言：只要3年就能解决 ‧ 台积电与ASML宣布重磅合作！

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