消息人士表示，中国已开始量产自主研发的浸润式深紫外线（DUV）微影机，这项先进芯片制造关键设备，象征北京降低对外国技术依赖的努力迈出重要一步。 路透社报导，因事涉敏感而要求匿名的消息人士表示，这项生产计划由鲜为人知的中国国有企业上海爱晟纳电子科技集团主导。 该公司集成多家中国顶尖微影新创公司的研发团队后，正式展开量产。 NXE3400B内部EUV 光源、液滴产生器和收集镜放大，图为慢动作显示光线被底部的收集镜聚焦。 （取自ASML官网） 这项进展代表北京推动全国半导体自给自足计划的一大突破。 半导体自主化是中国国家主席习近平最重要的政策目标之一，但短期内仍不致对荷兰微影设备龙头艾司摩尔（ASML）构成立即性商业威胁。

DUV微影机长期由ASML主导全球市场，是芯片制造不可或缺的内核设备。 科技媒体The Information昨天率先披露，中国已开始制造这项设备，指出上海一家未具名的国营背景企业已启动生产，预计今年生产约5台、2027年提高至约20台。 路透社则率先披露该公司的身分。 消息人士指出，爱晟纳生产的DUV微影机仍需进一步测试，距离ASML同类产品的技术水准仍有相当差距。 不过，一旦顺利投入使用，若西方国家未来进一步限制微影设备出口或维修服务，中国芯片制造商将可望拥有替代设备来源。

The Information引述2名知情人士报导，这款中国制DUV微影机预计今年交付中国主要芯片制造商，包括中芯国际（SMIC）、华虹半导体，以及内存芯片制造商长鑫保存（CXMT）。 浸润式DUV微影机利用投影镜头与硅晶圆之间的一层水膜，使曝光分辨率高于传统干式DUV系统，可印制更细微的电路图案。 这类设备可生产各式芯片，也可通过多重曝光（multiple patterning）技术，对同一层电路进行多次曝光，以制造更先进的半导体。 ASML未立即回应置评请求；中芯国际、华虹半导体及长鑫保存也未回应路透社询问。

The Information报导披露后，ASML股价昨天重摔8%，截至格林威治时间今天上午9时6分，ASML股价续跌1.6%，与其他欧洲半导体类股走势一致，但表现落后泛欧STOXX 600指数。 ● 爱晟纳背后的上海资本与技术 公司登记数据显示，爱晟纳成立于2023年8月，注册资本70亿元人民币（约10亿美元），股东仅有两家国营企业，分别为上海电气控股集团及上海国际信托旗下子公司。 外界对爱晟纳所知不多。 该公司没有官方网站，也未公开揭露任何营运信息。 消息人士表示，该公司集成去年已开始测试DUV原型机的微影新创公司宇量升，以及上海微电子装备的技术团队。

上海微电子装备及华为支持的半导体设备商新凯来（SiCarrier）旗下的宇量升，都是北京推动半导体自主化计划的重要参与者。 公司登记及征才数据显示，爱晟纳与宇量升在上海使用相同地址。 爱晟纳及其股东，以及上海微电子装备与宇量升均未回应路透社置评请求。 ● 追赶ASML 由于美国出口管制，中国无法取得ASML最先进的极紫外光（EUV）微影系统；荷兰政府的出口限制，也进一步限制中国取得部分先进DUV设备。 即使北京积极推动半导体自主化，中国仍是ASML最重要市场之一，今年上半年约占ASML净销售额16%。 虽然无法取得EUV设备，中国芯片厂仍持续大量采购较成熟的DUV设备。

路透社去年12月曾引述消息人士披露，中国已成功研制EUV系统原型机，这项设备是制造全球最先进芯片的关键设备，但距离量产仍需数年时间。 尽管市场出现明显反应，多位分析师认为，此项消息短期内不太可能改变ASML的获利前景。 摩根大通（JPMorgan Chase）分析师在今天的报告中指出：「打造少量浸润式DUV设备，并不等同具备高量产能力。 真正重要的是设备在数以千计晶圆制程中的良率、叠对精度、产能及可靠性。 」