消息人士表示，中國已開始量產自主研發的浸潤式深紫外線（DUV）微影機，這項先進晶片製造關鍵設備，象徵北京降低對外國技術依賴的努力邁出重要一步。 路透社報導，因事涉敏感而要求匿名的消息人士表示，這項生產計畫由鮮為人知的中國國有企業上海愛晟納電子科技集團主導。 該公司整合多家中國頂尖微影新創公司的研發團隊後，正式展開量產。 NXE3400B內部EUV 光源、液滴產生器和收集鏡放大，圖為慢動作顯示光線被底部的收集鏡聚焦。 （取自ASML官網） 這項進展代表北京推動全國半導體自給自足計畫的一大突破。 半導體自主化是中國國家主席習近平最重要的政策目標之一，但短期內仍不致對荷蘭微影設備龍頭艾司摩爾（ASML）構成立即性商業威脅。

DUV微影機長期由ASML主導全球市場，是晶片製造不可或缺的核心設備。 科技媒體The Information昨天率先披露，中國已開始製造這項設備，指出上海一家未具名的國營背景企業已啟動生產，預計今年生產約5台、2027年提高至約20台。 路透社則率先披露該公司的身分。 消息人士指出，愛晟納生產的DUV微影機仍需進一步測試，距離ASML同類產品的技術水準仍有相當差距。 不過，一旦順利投入使用，若西方國家未來進一步限制微影設備出口或維修服務，中國晶片製造商將可望擁有替代設備來源。

The Information引述2名知情人士報導，這款中國製DUV微影機預計今年交付中國主要晶片製造商，包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體，以及記憶體晶片製造商長鑫儲存（CXMT）。 浸潤式DUV微影機利用投影鏡頭與矽晶圓之間的一層水膜，使曝光解析度高於傳統乾式DUV系統，可印製更細微的電路圖案。 這類設備可生產各式晶片，也可透過多重曝光（multiple patterning）技術，對同一層電路進行多次曝光，以製造更先進的半導體。 ASML未立即回應置評請求；中芯國際、華虹半導體及長鑫儲存也未回應路透社詢問。

The Information報導披露後，ASML股價昨天重摔8%，截至格林威治時間今天上午9時6分，ASML股價續跌1.6%，與其他歐洲半導體類股走勢一致，但表現落後泛歐STOXX 600指數。 ● 愛晟納背後的上海資本與技術 公司登記資料顯示，愛晟納成立於2023年8月，註冊資本70億元人民幣（約10億美元），股東僅有兩家國營企業，分別為上海電氣控股集團及上海國際信託旗下子公司。 外界對愛晟納所知不多。 該公司沒有官方網站，也未公開揭露任何營運資訊。 消息人士表示，該公司整合去年已開始測試DUV原型機的微影新創公司宇量昇，以及上海微電子裝備的技術團隊。

上海微電子裝備及華為支持的半導體設備商新凱來（SiCarrier）旗下的宇量昇，都是北京推動半導體自主化計畫的重要參與者。 公司登記及徵才資料顯示，愛晟納與宇量昇在上海使用相同地址。 愛晟納及其股東，以及上海微電子裝備與宇量昇均未回應路透社置評請求。 ● 追趕ASML 由於美國出口管制，中國無法取得ASML最先進的極紫外光（EUV）微影系統；荷蘭政府的出口限制，也進一步限制中國取得部分先進DUV設備。 即使北京積極推動半導體自主化，中國仍是ASML最重要市場之一，今年上半年約占ASML淨銷售額16%。 雖然無法取得EUV設備，中國晶片廠仍持續大量採購較成熟的DUV設備。

路透社去年12月曾引述消息人士披露，中國已成功研製EUV系統原型機，這項設備是製造全球最先進晶片的關鍵設備，但距離量產仍需數年時間。 儘管市場出現明顯反應，多位分析師認為，此項消息短期內不太可能改變ASML的獲利前景。 摩根大通（JPMorgan Chase）分析師在今天的報告中指出：「打造少量浸潤式DUV設備，並不等同具備高量產能力。 真正重要的是設備在數以千計晶圓製程中的良率、疊對精度、產能及可靠性。 」