据《The Information》报导，1家总部位于上海的中国国企已开始量产浸润式DUV曝光机，引发投资人担忧ASML在中国市场的长期成长，27日ASML股价重挫，带动半导体股下杀。 对此，知名半导体分析师陆行之指出，短期对ASML冲击小，然而一旦中国设备在良率与稳定度上通过验证，ASML将面临成熟制程设备市占率被永久「国产替代」的风险。 DUV是什么？ DUV的全名是Deep Ultraviolet（深紫外光）。 在制造芯片的「微影制程」中，工程师用「光」当作雕刻刀。 DUV使用一种波长很短的深紫外光，因此能够制造出体积非常小、性能很好的芯片。

​陆行之引述《The Information》独家报导，一家总部位于上海的中国国企，集成上海宇量升科技等团队，已开始量产ArF 193nm Immersion浸润式DUV曝光机，旨在降低对荷兰及日本曝光机技术的依赖。 预计今年生产约5台，2027年生产约20台。 设备预计交付给中芯国际、华虹半导体以及内存大厂长鑫保存。 该设备主要采用本土零组件，少数关键零件来自日本，但本土供应商的交货延迟已影响到今年的生产进度。 ​陆行之分析，中国国产浸润式DUV曝光机启动小批量生产与交付的进展，对ASML、Nikon、Canon及整体晶圆代工，存储内存产业的影响为何？ ASML短期冲击为何？

陆行之提到，中国自研DUV初期的产能，今年约5台、2027年约20台，与ASML 2026年出货130台、2027年预计出货169台，2028年220台相比仍有差距，尤其量产时程是否会因良率不稳定而延迟，以及设备的日产出产能可能与ASML机台差异大，尤其与ASML高端机台相比。 然而，中国客户买不到ASML高端浸润式DUV，加速换用中国国产机，将影响ASML高利润的安装基底服务营收。 中国市场长期将如何演变？ ​ 陆行之说明，ASML目前垄断全球近99%的浸没式DUV市场。 一旦中国设备在良率与稳定度上通过中芯等晶圆厂的验证，ASML在中国这个占其营收约14%的第3大市场，将面临成熟制程设备市占率被永久「国产替代」的风险。

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