中国半导体设备自主化再有新进展。上海微电子装备集团（SMEE）在第九届中国国际进口博览会（进博会）展示自主研发的新一代前段制程干式扫描投影曝光机SSC800、SSB800，涵盖KrF与I-line两大技术路线。

第九届中国国际进口博览会于11月5日至10日在上海举行，SMEE此次在中国馆展出SSC800、SSB800设备模型，通过透明剖面设计呈现设备内部光学系统及机电结构，展示中国前段制程曝光机自主化的阶段性成果。

SMEE表示，此次展出的设备模型采用透明剖面设计，呈现整机光学系统及内部机电系统的配置。设备采用中国国产标准化前段制程微影架构，可支持I-line与KrF两种主流技术路线，从高精度物镜、照明系统、高速双工件台与光罩台，到自动化物料传输、对准及调平传感系统，内核环节均已实现自主可控，并具备稳定的制程适应能力及产线运作可靠性。

在设备性能方面，据悉，中国国产前段制程干式微影设备的成像性能已达国际同类领先产品水准，套刻精度与生产效率也持续追赶国际标竿。

目前销售中的SSC800系列采用KrF技术，SSB800系列则采用I-line技术，两款机型均以自主研发的双工件台平台为基础，搭载中国国产大数值孔径（NA）物镜，关键曝光成像指针对标国际标竿，其中SSC800整体性能已跻身产业第一梯队。

在供应链自主化方面，SMEE表示，设备建构于全自主可控的技术架构之上，关键零组件国产化率已突破90%，并完成产品定型及规模化量产，填补中国国内相关设备供给缺口。目前已有多台设备在中国主要逻辑芯片及内存制造商的量产产线稳定运作，累计支持晶圆投片逾1,000万片，设备有效运行率超过92%。

SMEE成立于2002年，是中国唯一具备前段制程干式微影设备稳定量产交付能力的制造商，也是中国前段制程微影设备自主供应体系的重要支柱，业务涵盖内核微影设备的设计研发、生产制造、市场销售及全流程技术服务。

公司表示，将持续投入自主技术创新，深化与上下游供应链及产业伙伴的合作，推动半导体产业链协同发展，为中国半导体产业升级提供内核设备支持。