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中国「存算一体」芯片技术最新突破!中国科学院联合港大研制出新型「铁电隧穿结」
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中国「存算一体」芯片技术最新突破!中国科学院联合港大研制出新型「铁电隧穿结」

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TL;DR · 这代表什么

这项突破为省电耐用的存算一体芯片提供新路径。

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新闻正文

完整中文翻译制作中,以下为原文。

中国科学院半导体研究所吴江滨研究员、谭平恒研究员团队与香港大学汪涵教授团队合作,周二(15日)在《科学》杂志发表题为《Giant tunneling electroresistance in sliding ferroelectrics》的论文,宣布成功研制出「铁电隧穿结」,一种基于二维滑移电穿材料的新型铁隧。

这项中港研究获国家重点研发计划、国家自然科学基金等支持,这项突破标志着中国在铁电保存领域取得重要进展,为下一代芯片技术革新奠定基础。

该零件在0.5伏特读取电压下实现1.9×10⁷(1900万)的电阻开关比,可承受超1000亿次开关,为开发更省电、更耐用的内存与「存算一体」芯片提供了新路径。

铁电隧穿结是一种微型「三明治」结构,上下为电极,中间夹极薄铁电层。通过极化方向翻转改变电子穿隧势垒高低,形成高低电阻两种状态,代表二进位数据。

传统首席技术官期面临「大电阻差」与「高耐久性」难以兼得的瓶颈:传统铁电材料电阻变化明显但易疲劳,而新型二维滑移铁电材料虽依靠原子层错动实现近零磨损、寿命超千亿次,却极化信号微弱,数据读出困难。

此次研究团队创新引入三种关键功能层:氮化硼作为均匀势垒减少漏电,二维滑移铁电材料充当可滑动的「闸门」调控势垒高度,单层石墨烯则作为灵敏「感受器」放大电子穿隧差异。三者协同产生「四两拨千斤」效果,将微弱极化变化转换为巨大电阻差。

实验显示,此设备电阻开关比较先前同类设备提高超4个数量级,开态电流密度达222安培/平方公分,并能在13奈秒极短脉冲下可靠切换,同时兼顾高读出信号、高速度、低能耗与长寿命。

随着大规模数组与配套电路完善,这类设备可望用于更高密度、更低功耗的保存和存算一体芯片,让手机、电脑在有限电量下承担更复杂AI任务。

今日小测

新型铁电隧穿结可承受多少次开关?