次世代パワー半導体体材料として期待されるr-GeO2(ルチル型二酸化ゲルマニウム)の開発・製造・販売をするPatentix株式会社に出資
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三菱UFJキャピタルが、立命館大学発スタートアップ「Patentix」への出資を発表。Patentixは、次世代パワー半導体材料として期待されるr-GeO2（ルチル型二酸化ゲルマニウム）の研究開発・製造を行う企業で、社会実装を目指す。
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よくある質問
- Q: Patentix株式会社とはどのような事業を行っている企業ですか？
- A: 次世代パワー半導体ルチル型二酸化ゲルマニウムのエピウエハの研究開発、製造、および販売を行う立命館大学発のスタートアップ企業です。
- Q: Patentix株式会社が社会実装に向けて踏み出した大きな一歩となる成功実績は何ですか？
- A: 安価なSi基板の上にルチル型二酸化ゲルマニウムの薄膜を作製することに成功したことです。
- Q: パワー半導体は日々の生活や産業においてどのような役割を担っていますか？
- A: 家電製品や自動車、電気自動車、産業機器など、あらゆる電気機器の電力を変換および制御する役割を担っています。
- Q: 出資元である三菱UFJキャピタル10号投資事業有限責任組合のファンド総額はいくらですか？
- A: 三菱UFJキャピタル10号投資事業有限責任組合のファンド総額は300億円となっています。
- Q: Patentix株式会社の設立時期と、本社の所在地はどこにありますか？
- A: 設立は2022年12月で、所在地は滋賀県草津市野路東1丁目-1番-1号の立命館大学BKCインキュベーターです。